| 1. Identificação | ||||
| Tipo de Referência | Artigo em Evento (Conference Proceedings) | |||
| Site | mtc-m21b.sid.inpe.br | |||
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S | |||
| Identificador | 8JMKD3MGP3W34P/3M9LH82 | |||
| Repositório | sid.inpe.br/mtc-m21b/2016/08.16.18.00 | |||
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m21b/2016/08.16.18.00.40 | |||
| Última Atualização dos Metadados | 2018:06.04.02.41.01 (UTC) administrator | |||
| Chave Secundária | INPE--PRE/ | |||
| Chave de Citação | ChiappimTesPesFraMac:2016:EfDiPl | |||
| Título | Plasma-assisted atomic layer deposition of TiO2 thin films: effect of direct plasma exposure during deposition on film structure and morphology  | |||
| Ano | 2016 | |||
| Data de Acesso | 11 maio 2024 | |||
| Tipo Secundário | PRE CI | |||
| 2. Contextualização | ||||
| Autor | 1 Chiappim, William 2 Testoni, Georgio Ernesto 3 Pessoa, Rodrigo Sávio 4 Fraga, Mariana Amorim 5 Maciel, Homero Santiago | |||
| Grupo | 1 2 3 4 LAS-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR | |||
| Afiliação | 1 Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP) 2 Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA) 3 Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP) 4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 5 Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP) | |||
| Endereço de e-Mail do Autor | 1 2 3 4 mariana.fraga@inpe.br | |||
| Nome do Evento | International Conference on Advanced Nanomaterials, 7 | |||
| Localização do Evento | Aveiro, Portugal | |||
| Data | 25-27 July | |||
| Histórico (UTC) | 2016-08-16 18:02:08 :: simone -> administrator :: 2016 2018-06-04 02:41:01 :: administrator -> simone :: 2016 | |||
| 3. Conteúdo e estrutura | ||||
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz | |||
| Estágio do Conteúdo | concluido | |||
| Transferível | 1 | |||
| Tipo do Conteúdo | External Contribution | |||
| Resumo | The titanium dioxide (TiO2) has a wide range of applications both as thin film or bulk material due to many attractive properties such as wide band gap, high dielectric constant, and photocatalytic activity. As thin film several applications can be cited as photovoltaics and sensors [1]. Recent studies have shown that modification of stoichiometry, crystalline structure, morphology and, consequently, the optical/electrical properties of TiO2 films can be finely tuned by appropriately altering plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) process parameters, e.g. plasma power, gas flow rate and pressure and plasma exposure (direct or remote plasma) [2]. In this work, we report about the effect of direct plasma exposure during deposition on film structure and morphology of PEALD TiO2 thin films using TiCl4 precursor. For this, a remote capacitively coupled 13.56 MHz oxygen plasma was used as co-reactant during ALD process and the plasma power was varied from 50 W to 200 W for a fixed process temperature of 250 ºC. In order to improve the discussions, thermal ALD of TiO2 films were performed at similar process conditions. | |||
| Área | FISMAT | |||
| Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Plasma-assisted atomic layer... | |||
| Conteúdo da Pasta doc | não têm arquivos | |||
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos | |||
| Conteúdo da Pasta agreement |
| |||
| 4. Condições de acesso e uso | ||||
| Idioma | en | |||
| Grupo de Usuários | simone | |||
| Grupo de Leitores | administrator simone | |||
| Visibilidade | shown | |||
| Permissão de Leitura | allow from all | |||
| Permissão de Atualização | não transferida | |||
| 5. Fontes relacionadas | ||||
| Repositório Espelho | urlib.net/www/2011/03.29.20.55 | |||
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ESR3H2 | |||
| Lista de Itens Citando | ||||
| Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.20 | |||
| 6. Notas | ||||
| Campos Vazios | archivingpolicy archivist booktitle callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel dissemination doi e-mailaddress edition editor format isbn issn keywords label lineage mark nextedition notes numberoffiles numberofvolumes orcid organization pages parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project publisher publisheraddress resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark serieseditor session shorttitle size sponsor subject targetfile tertiarymark tertiarytype type url versiontype volume | |||
| 7. Controle da descrição | ||||
| e-Mail (login) | simone | |||
| atualizar | ||||